單晶硅超聲波清洗機

單晶硅超聲波清洗機是一種用于清洗晶硅片等精密物件的清洗設備，從晶棒上切割下來的單晶硅片經過倒角、雙面研磨、拋光等工序加工后，其表面會附著各種污染物。隨著集成電路對硅片質量要求越來越高，對硅片表面的污染物有著極其嚴格的要求和控制。如果單晶硅片沒有清洗干凈則會嚴重影響器件的質量和成品率，清洗也成為單晶硅片制造過程中重要的步驟。

單晶硅超聲波清洗機是通過超聲波振動在液體中形成微小的氣泡，這些氣泡由于超聲波空化作用快速地破裂而產生微小的擦洗從而出去單晶硅片表面的污染物。超聲波清洗技術在半導體行業中已經是一種廣泛應用到的清洗方式，它具有清洗效果好、操作簡單等優勢。在單晶硅片的制作過程中大部分步驟為清洗工藝，在清洗硅片中應正確的使用單晶硅片超聲波清洗機，單晶硅片的潔凈度對半導體器件的性能起著至關重要的作用。